中国半导体行业传来新喜讯：中微财报显示，公司开发出5纳米刻蚀技术新设备，并获得批量订单！

在科技行业中，衡量技术落地的核心标准，在于能否商业化，而商业化的具体形式，则是能否获得稳定订单达到变现？

技术本身是无法直接创造价值的，需要通过订单才能收回成本，带来利润。再通过利润反哺技术，实现技术的迭代更新，带来新的订单，最终形成一个稳定的商业闭环：技术订单利润技术，直到这项技术过时淘汰，被新一轮技术取代。

有无订单，直接决定技术落地与否，AI迟迟无法着陆，无人驾驶依旧纸上谈兵，它们与光刻机同属高科技，但因为缺一份订单，在现实社会的影响力就截然不同。

中微这次获得订单是突破性的历史成就，此前仅台积电与三星掌握该技术，而且仅台积电可以量产出货，贵为半导体超级巨头的三星电子，也只能在实验室宣布实现刻蚀技术。

更有意思的是，中微公司曾在招股书中介绍，由于其开发出与美国设备公司具有同等质量和相当数量的等离子体刻蚀设备并实现量产，美国商务部在2015年宣布解除了对中国等离子体刻蚀设备多年的出口管制。

“你有了，我就不禁止了”，事实证明，打铁还需自身硬，中国想解除西方技术封锁，只能靠自身科技实力不断进步，没法指望竞争对手网开一面！

但另一方面，我们还需保持头脑清醒，毕竟刻蚀不是光刻，技术难度相比光刻要小很多。

“光刻”是在涂满光刻胶度的晶圆上先做好光刻板，然后用紫外线隔着光刻板对晶圆进行一定时间的照射。

“刻蚀”是光刻后，用腐蚀液将变质的那部分光刻胶腐蚀掉，晶圆表面就显出半导体器件及其连接的图形。

光刻技术涉及面广，复杂度高，依旧是痛点，希望我国技术人员再接再厉，早日实现国产光刻技术的新突破！

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