天沃科技--超级重磅！国产光刻机龙头上海微电子借壳上市锁定天沃科技！

上海电气集团旗下的国产光刻机龙头企业上海微电子近期在光刻机领域获得重大技术突破！上海微电子已确认放弃IPO上市从而转向借壳上市：借壳上市的目标已锁定上海电气（集团）总公司控股的天沃科技（002564）！

——随着上海微电子在光刻机关键领域的技术突破，国产光刻机领域的发展已经到了非常重要的时间点。因此，上海微电子选择在当前这个时间点借壳上市，无疑是将天时、地利、人和集于一身！而作为在上海电气手上储备了三年多的壳资源，天沃科技（002564）当仁不让必将成为上海微电子在A股借壳上市的平台！

近两年国产芯运动正如火如荼开展，作为芯片制造中的必要设备，中国已经涌现出一些优秀光刻机企业，其中上海微电子装备（集团）股份有限公司（简称SMEE）作为我国光刻机领域的龙头企业，公司最近在光刻机关键技术领域又获得了重大突破！最新的报道称，“中国国产28nm DUV光刻机计划在今年年底前从上海微电子（SMEE）生产出来，并在上海专有的生产线上为物联网设备制造48nm和28nm芯片。”另外预计在2023年，SMEE 20nm光刻技术将首先部署用于制造5G设备芯片。同时，上海微电子装备集团股份有限公司的光刻机研发经理罗晋，也在近日发表了一个名为《一种针对刚体结构的垂向三自由度运动控制装置的研究》的论文，这份论文的研究表明，该公司已经能够实现指定精度的垂向三自由度运动控制，而该技术用于高端光刻机。综合多个信息源来看，随着以上海微电子为首的中国光刻机研发企业在光刻机技术上的不断突破，相关产业链企业的加强合作，可生产28nm芯片的DUV光刻机已越来越近了！因此，上海微电子选择在当前这个时间点借壳上市，无疑是将天时、地利、人和集于一身！而作为在上海电气手上储备了三年多的壳资源，天沃科技（002564）当仁不让成为上海微电子在A股借壳上市的平台！

国产光刻机龙头企业上海微电子重大突破：今年年底将推出国产28nm DUV光刻机！因此，此前已撤回IPO申请的上海微电子尽快通过借壳实现A股上市成为当务之急！

根据上海微电子装备股份有限公司的官网介绍，公司主要致力于半导体装备、泛半导体装备、高端智能装备的开发、设计、制造、销售及技术服务。公司设备广泛应用于集成电路前道、先进封装、FPD面板、MEMS、LED、Power Devices等制造领域。

其中，在IC领域，目前上海微电子推出的最先进光刻机为SSX600系列步进扫描投影光刻机，可满足IC前道制造90nm、110nm、280nm关键层和非关键层的光刻工艺需求。该设备可用于8寸线或12寸线的大规模工业生产。

毫不夸张地说，上海微电子绝对是国内技术最领先的光刻设备厂商。目前公司IC前道光刻机水平与ASML差距明显，但是不断取得阶段性的成果，已经实现90 nm制程。公司已经实现从低端切入市场，在细分市场中具有高国内市场占有率。公司拥有先进的封装光刻机技术，目前已成为封测龙头企业的重要供应商，国内市场占有率高达80%，全球市场占有率达40%。公司LED/MEMS/功率器件光刻机性能指标领先，LED光刻机市占率第一！

在强调产业链自主可控的当下，上海微电子扮演的角色越发重要。多位业内人士表示，国内厂商正在合力打造一条去美化的28纳米芯片制造产线，而光刻机是重中之重。有观点认为，国内厂商有望在2021年开发出可用于生产28纳米芯片的干式双工件台光刻机，并计划2022年开发出可用于生产28纳米芯片的浸没式双工件台光刻机！

同时，光源、光学系统和工件台系光刻机的三大核心组件，而国产可用于生产28纳米芯片的浸没式光刻光源、浸没式ArF曝光光学系统和浸没式双工件台均有望在2021年实现。

上海微电子的总经理贺荣明告诉记者，制造光刻机就是在微观世界里“造房子”——光刻机是一个由几万个精密零件、几百个执行器传感器、千万行代码组成的超复杂思维系统，它的内部运动精度误差不超过一根头发丝的千分之一。

在十几年前有过这样一个“笑话”，国内有人前往德国进行技术考察，当时德国的工程师直接将光刻机的图纸给他看，他疑惑为什么这么核心的技术敢给他看，那位德国工程师直言“因为就算给你们全套图纸，你们也做不出来”。

2002年，为实现“用中国人的光刻机造中国芯”的梦想，贺荣明带着几位满怀梦想的“战友”来到上海张江，承担起制造振兴国家民族的微电子装备产业，开始了艰难的光刻机研发之路。

然而，由于国内的相关行业处于一片空白，无论是专业人员还是配套的零件供应链，都让贺荣明无从下手。在这样的情况下，贺荣明深知，“唯一的出路就是走创新之路。”

如今，通过十几年的“卧薪尝胆”，上海微电子已经完全掌握了先进封装光刻机、高亮度LED光刻机等高端智能制造领域的先进技术。