这两天不断看到有关半导体行业的相关信息，其中有些博主的信息写的比较细致，昨天看到了@辉煌中国CN 连续写的2篇关于国产光刻胶的文章。其中的知识点学习到了。

但是辉煌写的时候，更多的是从消息层面做的说明。借用这个话题，我做一些补充，让大家对于国产光刻胶这块，可以有进一步的了解。

一、光刻胶根据应用领域不同，一共分为三类：PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶。每一类光刻胶又有各自细分品类。很多人对于前两者基本没有了解过。媒体方面也很少报道。更多的是集中在半导体光刻胶的信息方面。（详细可看附图）

二、按照光源波长的从大到小，可分为紫外宽谱(300-450nm)、g线(436nm)、i线(365nm)、KrF(248nm)、ArF(193nm)、EUV(13.5nm)，所对应的制造难度紫外宽谱＜g线＜i线＜KrF＜ArF＜EUV。

三、我国的光刻胶领域，并不是像媒体报道的那么惨。实际严格上来说，半导体行业的光刻胶的市占率确实低。上面说了在光刻胶的三个领域中，PCB的光刻胶已经可以做到50%以上的市占率。在g/i的光刻胶属于半导体光刻胶的最低端的。目前可以做到10%的市占率。而KrF、ArF作为高端光刻胶，我国的市占率没有统一的口径。但是几个龙头公司南大广电、上海新阳等几家的的KrF的产品都已经交付使用。ArF的目前就南大广电、上海新阳透露的消息，是已经进入验证环节，但最终是否可以交付使用，还有待观察。

一直以来光刻胶在整个半导体产业链里面，占据非常小不到1%。但是这个产品优势非常的重要。前几年的日韩斗争，日本断供韩国的光刻胶，导致全球性质的恐慌。所以在半导体行业，光刻胶确实是个硬茬。

在前些年的时候，全球化合作中国外厂家的产品，不管是从价位，还是品质方面确实比我们的要好的多。所以国内半导体代工厂，不太愿意使用国产的东西，现在美欧的半导体制裁，可以让我国的厂家选择上只能用国产的，国产的也有资金用来做产品的升级。这次确实给了国产光刻机一次难得机会。

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